Chinas Leistungshalbleiter haben bemerkenswerte Ergebnisse erzielt!

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Am 2-6. Juni 2024 fand das 36. Internationale Symposium für Leistungshalbleiterbauelemente und ICs (ISPSD) erfolgreich in Bremen, Deutschland, statt. Als Flaggschiff-Konferenz für Leistungshalbleiter unter IEEE befasst sich die ISPSD mit Design, Prozess, Verpackung und Anwendung von Leistungshalbleiterbauelementen und integrierten Leistungsschaltungen und ist die einflussreichste und größte internationale akademische Konferenz im Bereich der Leistungsbauelemente. Bei dieser Konferenz wurden insgesamt 331 Beiträge und 7 Nachmeldungen eingereicht. Nach der Auswahl des technischen Komitees wurden insgesamt 141 Beiträge angenommen (Annahmequote von 42,6 %), darunter 42 mündliche Präsentationen (Annahmequote von nur 12 %) und 99 Posterbeiträge. Die ISPSD-Konferenz hat immer die Tradition eines einzigen Veranstaltungsortes ohne Nebenveranstaltungsorte beibehalten.

China hat bemerkenswerte Ergebnisse erzielt

 

 

China ist das Land mit der größten Zahl an für diese Konferenz ausgewählten Beiträgen: insgesamt 78 Beiträge (68 vom chinesischen Festland, 4 aus Hongkong und 6 aus Taiwan). In der akademischen Welt steht die University of Electronic Science and Technology of China mit 15 Beiträgen an der Spitze, die Zhejiang University und die Southeast University teilen sich mit 9 Beiträgen den zweiten Platz und die Peking University und die University of Science and Technology of China teilen sich mit jeweils 6 Beiträgen den vierten Platz. Auf der Konferenz gab es 42 mündliche Präsentationen, von denen 23 von China ausgewählt wurden (20 vom chinesischen Festland, 1 aus Hongkong und 2 aus Taiwan). Die Zhejiang University belegte mit 5 Beiträgen gemeinsam mit Toshiba den ersten Platz weltweit. Die Peking University und die University of Electronic Science and Technology of China teilen sich mit drei Beiträgen den dritten Platz weltweit. Diese Erfolge belegen Chinas schnelle Entwicklung im Bereich der Leistungshalbleiter. Seit der ISPSD im Jahr 1988 wurden insgesamt 3201 reguläre Beiträge (einschließlich mündlicher Präsentationen und Posterbeiträge, ausgenommen Plenarberichte) angenommen und 463 Beiträge aus China ausgewählt (326 vom chinesischen Festland, 1 aus Macao, 78 aus Hongkong und 58 aus Taiwan), was 14,5 % der Gesamtzahl der weltweit ausgewählten Beiträge entspricht. Insbesondere wurden in den letzten 10 Jahren insgesamt 374 Beiträge in China ausgewählt, davon 279 Beiträge vom chinesischen Festland. Chinas rasante Entwicklung im Bereich der Leistungshalbleiter ist untrennbar mit den Bemühungen aller einheimischen Experten und Wissenschaftler verbunden, wie etwa dem Team von Professor Zhang Bo von der University of Electronic Science and Technology of China, dem Team von Professor Sun Weifeng von der Southeast University, dem Team von Professor Chen Jing von der Hong Kong University of Science and Technology, dem Team von Professor Sheng Sheng von der Zhejiang University sowie der Peking University, der University of Science and Technology of China, der Xidian University, der Nanjing University, dem Institute of Microelectronics of the Chinese Academy of Sciences, der Fudan University und anderen Universitäten und Forschungsinstituten. Das Team, die Experten und die Wissenschaftler haben eine wichtige Rolle bei der schrittweisen Verbesserung des Rufs und Einflusses Chinas im Bereich der internationalen Leistungshalbleiter gespielt.

Ruhmeshalle des ISPSD

Um Forscher zu ehren, die herausragende Beiträge auf dem Gebiet der Leistungshalbleiter geleistet haben, richtet die ISPSD-Konferenz seit 2018 eine Hall of Fame ein, und mit Ausnahme der ersten Hall of Fame werden jedes Jahr nur 2 bis 3 Personen ausgewählt. Bei dieser Konferenz wurde Professor Sheng Shi, Dekan der Fakultät für Elektrotechnik der Zhejiang-Universität, für seine akademischen Errungenschaften auf dem Gebiet der Siliziumkarbid-Leistungsbauelemente und seine Beiträge zur Organisation der ISPSD-Konferenz in die ISPSD Hall of Fame aufgenommen. Damit ist er nach Akademiemitglied Chen Xingbi der zweite Gelehrte vom chinesischen Festland, dem diese Ehre zuteil wird. Zu den in die ISPSD Hall of Fame aufgenommenen chinesischen Gelehrten gehören: Professor Chen Xingbi von der University of Electronic Science and Technology of China (2018), Professor Tat-Sing Paul Chow von Zhou Dacheng vom Rensselaer Polytechnic Institute (2018); Johnny Kin On Sin, Shan Jian'an, Hong Kong University of Science and Technology (2020), Zheng John Shen, Shen Zheng, Illinois Institute of Technology (2023). Auf der 30. ISPSD-Konferenz im Jahr 2018 wurde Akademiker Chen Xingbi für seine Erfindung der bahnbrechenden Technologie der zusammengesetzten Pufferdruckstruktur (jetzt als Super-Junction bekannt) in die erste IEEE ISPSD Hall of Fame aufgenommen und war damit der erste chinesische Wissenschaftler in China, der in die Hall of Fame aufgenommen wurde. Die herausragenden Leistungen von Akademiker Chen in Richtung Super-Junction-Geräte hatten einen wichtigen Einfluss auf den Fortschritt der Leistungshalbleitertechnologie und der industriellen Entwicklung. Auf der ISPSD-Konferenz 2024 wurde Professor Sheng Shi als chinesischer Wissenschaftler auf dem chinesischen Festland ausgewählt, was darauf hinweist, dass die Errungenschaften der chinesischen Leistungshalbleiterbauelementindustrie von internationalen akademischen und industriellen Kollegen anerkannt wurden, was nicht nur eine Bestätigung der Arbeit von Experten, Wissenschaftlern und der Industrie auf dem Gebiet der Leistungshalbleiter in China ist, sondern auch die jüngere Generation von Forschern in China inspiriert, auch in Zukunft weiter voranzukommen und mehr und größere Beiträge zur Entwicklung der globalen Leistungshalbleitertechnologie zu leisten.

Chinas Industrie wächst

Von den 463 in China ausgewählten Arbeiten kamen nur 49 aus der Industrie (15 vom chinesischen Festland und 34 aus Taiwan), was weniger als 11 % entspricht. Auf dem chinesischen Festland werden weniger als 5 % der Arbeiten aus der Industrie veröffentlicht. In vielen akademischen Kooperationseinheiten für Arbeiten können wir jedoch die wichtigsten Unternehmen Huahong Hongli, China Resources Micro und Nenghua Semiconductor sehen. Darüber hinaus wurden seit 2015 7 Unternehmen, darunter CRRC Zhuzhou, State Grid, Delta, HiSilicon, TSMC, NIO, Chipji Semiconductor und Silicon Matrix, eingeladen, Plenarberichte bei ISPSD abzugeben, was zeigt, dass die Fortschritte der chinesischen Industrie im Bereich der Leistungshalbleiter von internationalen Kollegen anerkannt wurden. Die Zukunft der chinesischen Leistungshalbleiter ist vielversprechend!

 

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